Студентам > Рефераты > Автоматизированное проектирование СБИС на базовых матричных кристаллах
Автоматизированное проектирование СБИС на базовых матричных кристаллахСтраница: 2/3
гут присутствовать специализированные макроячейки,
реализующие ти-
повые функциональные узлы (например, запоминающее
устройство).
Помимо ячеек, являющихся заготовками для
реализации элемен-
тов, на БМК могут присутствовать фиксированные части
соединений. К
ним относятся шины питания, земли, синхронизации и
заготовки для
реализации частей сигнальных соединений. Например, для
макроячеек
(b) шины питания и земли проводятся вдоль верхней и
нижней сторон
соответственно. Для макроячеек (a,d) шины проводятся
вдоль линии,
разделяюшей верхний и нижний ряды ячеек, что приводит к
уменьшению
потерь площади кристалла. Для реализации сигнальных
соединений на
БМК получили распространение два вида заготовок:
фиксированное
расположение однонаправленных (горизонтальных или
вертикальных)
участков трасс в олном слое; фиксированное расположение
участков
трасс в одном слое и контрактных окон, обеспечиваюших
выход фикси-
рованных трасс во второй слой.
В первом случае для реализации коммутации
проектируемой схемы
не требуется разработка фотошаблона фиксированного
слоя, т. е.
число разрабатываемых фотошаблонов уменьшается на
единицу. Во вто-
ром случае число разрабатываемых фотошаблонов
уменьшается на два
(не требуется также фотошаблон контактных окон).
Отметим, что в
настоящее время получили распространение различные виды
формы и
расположения фиксированных трасс и контактных окон.
Целесообраз-
ность использования того или иного вида определяется
типом макроя-
чеек, степеныо интеграции кристалла и объемом
производства.
При реализации соединений на БМК часто возникает
необходи-
мость проведения трассы через область, занятую
макроячейкой. Такую
трассу будем называть транзитной. Для обеспечения такой
возможнос-
ти допускается: проведение соединения через область,
занятую ячей-
кой, проведение через зазоры между ячейками. Первый
способ может
применяться, если в ячейке не реализуется элемент, или
реализация
элемента допускает использование фиксированных трасс и
неподклю-
ченных выводов для проведения транзитной трассы.
Таким образом, в настоящее время разработано большое
многооб-
разие типов БМК, которые имеют различные пераметры. При
проектиро-
вании микросхем на БМК необходимо учитывать
конструктивно-техноло-
гические характеристики кристалла. К ним относятся
геометрические
параметры кристалла, форма и расположение макроячеек на
кристалле
и ячеек внутри макроячеек, расположение шин и способ
коммутации
сигнальных соединений.
Итак, следует отметить, что задача определения
структуры БМК
является достаточно сложной, и в настоящее время она
решается
конструктором преимущественно с использованием средств
автоматиза-
ции.
РЕАЛИЗАЦИЯ ЛОГИЧЕСКИХ ЭЛЕМЕНТОВ НА БМК
Выше было показано, что БМК представляет собой
заготовку, на
которой определенным образом размещены электронные
приборы (тран-
зисторы и др.). Следовательно, проектирование микросхемы
можно бы-
ло бы вести и на приборном уровне. Однако этот способ
не находит
распространения на практике по следующим причинам.
Во-первых, воз-
никает задача большой размерности. Во-вторых, учитывая
повторяе-
мость структуры частей кристалла и логической схемы,
приходится
многократно решать однотипные задачи. Поэтому применение
БМК пред-
полагает использование библиотеки типовых логических
злелентов,
которая разрабатывается одновременно с конструкцией
БМК. В этом
отношении проектирование матричных БИС подобно проектированию
пе-
чатных плат на базе типовых серий микросхем.
Таким образом, при применении БМК проектируемая
схема описы-
вается на уровне логических элементов, а каждый элемент
содержится
в библиотеке. Эта библиотека формируется заранее. Она
должна обла-
дать функциональной полнотой для реализации широкого
спектра схем.
Традиционно подобные библиотеки содержат следующие
элементы: И-НЕ,
ИЛИ-НЕ, триггер, входные, выходные усилители и др. Для
реализации
элемента используется одна или несколько ячеек
кристалла, т. е.
размеры элемента всегда кратны размерам ячейки. Топология
элемента
разрабатывается на основе конструкции ячейки и
представляет собой
совокупность трасс, которые совместно с имеющимися на
кристалле
постоянными частями реализуют требуемую функцию. Именно
описание
указанных соединений и хранится в библиотеке.
В зависимости от того, на каких ячейках реализуются
элементы,
можно выделить внешние (согласующие усилители, буферные
схемы и
др.) и внутренние, или просто логические элементы.
Если внешние
элементы имеют форму прямоугольников независимо от типа
кристалла,
то для логических элементов сушествует большое
разнообразие форм,
которое определяется типом макроячеек. Так, для
макроячейки, пока-
╔════════╗
╔════════╗
╔═══╤════╗
╔════════╗
║ ║ ║ ║
║███│ ║
║████████║
╟────┐
║
╟────────╢
║███└────╢
║████████║
║████│
║
║████████║
║████████║
║████████║
╚════╧═══╝
╚════════╝ ╚════════╝
╚════════╝
рис. 5
занной на рис. 4(a), возможные формы элементов приведены
на рис.
5. При этом следует иметь в виду, что каждая форма может
быть реа-
лизована с поворотом относительно центра макроячейки
на угол,
кратный 90'. Для расширения возможностей наилучшего
использования
площади кристалла для каждого логического элемента
разрабатываются
варианты тапологии, позволяющие его реализовать в
различных частях
макроячейки. Поскольку структура макроячейки обладает
симметрией,
то эти варианты топологии, как правило, могут быть
получены из ба-
зового вращением относительно осей симметрии.
При проектировании на уровне элементов
существенными данными
являются форма логического элемента и расположение
его выводов
(цоколевка).
СИСТЕМЫ АВТОМАТИЗИРОВАННОГО ПРОЕКТИРОВАНИЯ
МАТРИЧНЫХ БИС
ПОСТАНОВКА ЗАДАЧИ ПРОЕКТИРОВАНИЯ
Задача конструирования матричных БИС состоит в
переходе от
заданной логической схемы к ее физической реализации
на основе
БМК. При этом исходные данные представляют собой описание
логичес-
кой схемы на уровне библиотечных логических элементов,
требования
к его функционированию, описание конструкции БМК и
библиотечных
элементов, а также технологические ограничения. Требуется
получить
конструкторскую документацию для изготовления
работоспособной мат-
ричной БИС. Важной характеристикой любой электронной
аппаратуры
является плотность монтажа. При проектировании матричных
БИС плот-
ность монтажа определяется исходными данными. При этом
возможна
ситуация, когда искомый вариант реализации не
существует. Тогда
выбирается одна из двух альтернатив: либо матричная БИС
проектиру-
ется на БМК больших размеров, либо часть схемы переносится
на дру-
гой кристалл, т. е. уменьшается объем проектируемой
схемы.
Основным требованием к проекту является 100%-ная
реализация
соединений схемы, а традиционным критерием, оценивающими
проект, -
суммарная длина соединений. Именно этот показатель связан
с такими
эксплуатационными параметрами, как надежность,
помехоустойчивость,
быстродействие. В целом задачи конструирования матричных
БИС и пе-
чатных плат родственны, что определяется заранее
заданной формой
элементов и высоким уровнем унификации конструкций.
Вместе с тем
имеют место следующие отличия:
- элементы матричных БИС имеют более сложную форму
(не пря-
моугольную);
- наличие нескольких вариантов реализации одного и
того же
типа элемента;
- позиции для размещения элементов группируются в
макроячей-
ки;
- элементы могут содержать проходы для транзитных
трасс;
- равномерное распределение внешних элементов по
всей перифе-
рии кристалла;
- ячейка БМК, не занятая элементом, может
использоваться для
реализации соединений;
- число элементов матричных БИС значительно
превышает значе-
ние соответствующего параметра печат ных плат.
Перечисленные отличия не позволяют непосредственно
использо-
вать САПР печатных плат для проектирования матричных
БИС. Поэтому
в настоящее время используются и разрабатываются новые
САПР, пред-
назначенные для проектирования матричных БИС, а также
дорабатыва-
ются и модернизируются уже действующие САПР печатных
плат для ре-
шения новых задач. Реализация последнего способа
особенно упроща-
ется, когда в системе имеется набор программ для решения
задач те-
ории графов, возникающих при конструировании.
Поскольку трассировка соединений на БМК ведется с
заданным
шагом на дискретном рабочем поле (ДРП), то необходимо
чтобы выводы
элементов попадали в клетки ДРП. Однако внешние выводы
макроячеек
могут располагаться с шагом, не кратным шагу ДРП. В
этом случае
используется простой прием введения фиктивных контактных
площадок,
связанных с внутренними частями ячейки. Если трасса к
макроячейке
не подходит, то область фиктивной площадки остается
свободной.
При разработке САПР БИС на БМК необходимо учитывать
требова-
ния к системам, диктуемые спецификой решаемой задачи. К
ним отно-
сятся:
1. Реализация сквозного цикла проектирования от
схемы до
комплектов машинных документов на изготовление, контроль
эксплуа-
тацию матричных БИС.
2. Наличие архива данных о разработках, хранимого
на долгов-
ременных машинных носителях информации.
3. Широкое применение интерактивных режимов на
всех этапах
проектирования.
4. Обеспечение работы САПР в режиме коллективного
пользова-
|